山東力冠微電子裝備有限公司成立于2013年，是一家集研發、生產、銷售為一體的半導體工藝設備企業。公司集中業內科技人才致力于為廣大客戶提供產線標準化產品、非標產品高端定制服務，與國內知名半導體企業、科研院校等保持密切合作，產品被廣泛運用于重要科技攻關項目中，為我國半導體工藝事業做出了積極貢獻。山東力冠微電子裝備有限公司在吸取國內外先進技術和工藝的基礎上，集多年來在半導體行業的智慧和經驗，產品的精度、穩定性、可靠性達到了優質水平。
目前公司主要產品有：
第一代半導體設備: LPCVD、 PECVD、 立式擴散爐、LPE外延爐、真空退火爐、氧化擴散爐、加熱器。
第二代半導體設備：磷化銦（InP）單晶生長設備、砷化鎵（GaAs）單晶生長設備。
第三代半導體設備:氮化鎵HVPE晶體生長設備、碳化硅PVT晶體生長設備、金剛石MPCVD設備。
晶體設備:晶體提拉爐、坩堝下降爐、微下拉晶體生長爐、助熔劑法提拉爐。
石墨烯設備:石墨烯氟化粉體設備、石墨烯薄膜CVD設備、石墨烯卷對卷設備。
未來，公司將繼續加大研發腳步，致力于成為一家充滿活力的高端設備供應商和新材料制備工藝服務商，為發展振興國內半導體工藝設備，貢獻一己之力!