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碳化硅PVT晶體生長設備
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發布日期:2020-08-21
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詳細介紹

產品概述:

●本設備主要用于碳化硅(SiC)、氮化鋁(AlN)單晶生長


產品特點:

●提供兩種工藝包

①外形包:產出6英寸碳化硅(SiC)單晶,外形不開裂

②工藝包:1、產出6英寸碳化硅(SiC)單晶,生產效率3.5爐/月

2、晶體長度:≥15mm,微管密度:≤3個/cm2

3、位錯密度:104~105個/cm2

●溫度最高可達2400℃

●加熱方式:感應、電阻

●襯底尺寸:4/6/8英寸


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